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DTAD Deutscher Auftragsdienst

Ausschreibung - Beschichtungsanlage in Emmerthal (ID:11595405)

Auftragsdaten
Titel:
Beschichtungsanlage
DTAD-ID:
11595405
Region:
31860 Emmerthal
Auftragsart:
Nationale Ausschreibung
Nationale Ausschreibung
Dokumententyp:
Ausschreibung
Ausschreibung
Termine und Fristen
DTAD-Veröffentlichung:
15.02.2016
Frist Angebotsabgabe:
03.03.2016
Beteiligte Firmen und Vergabestellen
Auftraggeber:
Zusätzliche Informationen
Kurzbeschreibung:
Nach technischer Klärung möchten wir Sie bitten, ein Angebot für eine Beschichtungsanlage für reaktives Co-Sputtern von Oxiden und Nitriden mit wenigstens zwei metallischen Komponenten zu...
Kategorien:
Labormöbel, -Einrichtung, Sonstige Maschinen, Geräte
Vergabeordnung:
Lieferauftrag (VOL)
DE-31860: Beschichtungsanlage
Vollständige Bekanntmachung
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Vergabestelle: Institut für Solarenergieforschung GmbH

Kurzinfo

Leistungen und Erzeugnisse

Lieferleistungen

Ausschreibungsweite

Nationale Ausschreibung

Vergabeverfahren

Dienst- und Lieferleistungen (VOL)

Vergabeart

Öffentliche Ausschreibung

Angebotsfrist

03.03.2016

Erfüllungsort

31860 Emmerthal Niedersachsen

Nach technischer Klärung möchten wir Sie bitten, ein Angebot für eine Beschichtungsanlage für reaktives Co-Sputtern von Oxiden und Nitriden mit wenigstens zwei metallischen Komponenten zu erstellen.

Die Anforderungen sind im Einzelnen:

Prozesskammer mit Proben-Schleuse

Probengröße 156x156, 100x100, 50x50 und 25x25 mm, Proben-Dicke 1-5 mm

Co-Sputtern von zwei Metallen (DC oder gepulstes DC)

Reaktives Co-Magnetron-Sputtern mit zwei unabhängig gesteuerten Metall-Targets (Reaktivgase O2, N2, Äthylen, Prozessgas Ar), Gasflüsse MFC-geregelt.

Regelung von 3) und 4) mittels Plasma-Emissions-Monitoring (PEM)

2 RF-Magnetron-Sputterquellen unabhängig von 3)

Vorbereite Geometrie für In-situ-Beobachtung des Beschichtens von 3) mit spektraler Ellipsometrie ohne Prozessregelung (Ellipsometrie nicht im Leistungsumfang)

Schichtdicken-Homogenität bei Fläche 156x156 mm und Schichtdicke 100nm < d < 300 nm kleiner als 5% (metallisch) sowie kleiner als 10% (reaktiv, voll oxidiert)

Proben-Temperatur von Raumtemperatur bis mindestens 300°C

Prozess-Steuerung manuell oder rezept-basiert

Steuerung muss Abscheidung mit Gradienten im Verlauf der Beschichtung erlauben (Variation des Metall-Reaktiv-Gas-Verhältnisses, Variation des Verhältnisses der beiden Metalle)

Probendurchsatz: Üblicher Laborbedarf, mindestens 2 Proben/Stunde

Ansprechpartner:

R. Reineke-Koch

Tel.: +49(0)5151-999-431

E-Mail: r.reineke-koch@isfh.de

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