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Verfahren zur Vor-Information - Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke in München (ID:10087656)

Auftragsdaten
Titel:
Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
DTAD-ID:
10087656
Region:
80686 München
Auftragsart:
Europäische Ausschreibung
Europäische Ausschreibung
Dokumententyp:
Verfahren zur Vor-Information
Verfahren zur Vor-Information
Termine und Fristen
DTAD-Veröffentlichung:
25.10.2014
Beteiligte Firmen und Vergabestellen
Vergabestelle:
Zusätzliche Informationen
Kurzbeschreibung:
Chemisch-Mechanisches Poliersystem CMP3 Die Bekanntmachung betrifft den Abschluss einer Rahmenvereinbarung: nein
Kategorien:
Sonstige Maschinen, Geräte
CPV-Codes:
Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
Vergabeordnung:
Lieferauftrag (VOL)
Vollständige Bekanntmachung
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Org. Dok.-Nr:  364376-2014

Vorinformation

Lieferauftrag Richtlinie 2004/18/EG
Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
I.1) Name, Adressen und Kontaktstelle(n)
Fraunhofer Gesellschaft e. V.
Hansastr. 27c
Zu Händen von: Frau Lönz
80686 München
DEUTSCHLAND
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse des öffentlichen Auftraggebers: http://www.fraunhofer.de
Weitere Auskünfte erteilen: die oben genannten Kontaktstellen
I.2) Art des öffentlichen Auftraggebers
Sonstige: Forschungsgesellschaft e. V.
I.3) Haupttätigkeit(en)
Sonstige: Forschung & Entwicklung
I.4) Auftragsvergabe im Auftrag anderer öffentlicher Auftraggeber
Der öffentliche Auftraggeber beschafft im Auftrag anderer öffentlicher Auftraggeber: nein
Abschnitt II.B: Auftragsgegenstand (Lieferungen oder Dienstleistungen)
II.1) Bezeichnung des Auftrags durch den öffentlichen Auftraggeber:
Chemisch-Mechanisches Poliersystem CMP3
II.2) Art des Auftrags und Ort der Lieferung bzw. Ausführung
Lieferauftrag Dresden NUTS-Code DED2
II.3) Angaben zur Rahmenvereinbarung
Die Bekanntmachung betrifft den Abschluss einer Rahmenvereinbarung: nein
II.4) Kurze Beschreibung der Art und der Menge bzw. des Werts der Waren
bzw. Dienstleistungen: Bezeichnung des Auftrages: Beschaffung Chemisch-Mechanisches Poliersystem (CMP3). Kurzbeschreibung: Das chemisch-mechanische Poliersystem soll die Oberflächenbearbeitung von Dünnfilm-Schichten (Oxide, Poly-Silizium, amorphes Silizium, Metalle) auf 200-mm-Wafern ermöglichen. Zur Prozessierung sind des Weiteren integrierte optische und elektrische Baugruppen sowie eine Reinigungsstation erforderlich. 1. Baugruppen: Ein-/Ausgabe-Stationen (Load ports) und automatisches Handling-System für 200 mm Wafer gem. SEMI-Standard. Multi-Polier-Platen Architektur und Mehrzonen-kontrollierte Polierköpfe. Dry-In/Dry-Out-Konzept durch integrierte Reinigungsstation (Cleaner) mit physikalischer (PVA-Rollen, Megasonic) und chemischer Reinigung für hydrophile und hydrophobe Oberflächen sowie Wafertrocknung Integrierte Messtechnik für Endpunkt-Erkennung (Kontrolle über Motorstrom und optische Kontrolle und/oder andere Verfahren wie z. B. Wirbelstrommessung, Sniffer). Integrierte Messtechnik (NOVA®) zur kontinuierlichen Wafer-zu-Wafer-Prozesskontrolle für kritischen Schichten mit hohen Anforderungen an Prozessfenster durch unmittelbare Bestimmung der Schichtdicke vor und nach dem Polieren jedes Wafers. Geschlossenes Slurry-System mit Flow-Controller, Möglichkeit der DI-Wasserspülung und programmierbaren Durchflußmengen. Für die spezifizierte Anlage gültige und lizensierte Software (OS: Windows XP oder neuer). SECS-GEM-Schnittstelle mit Remote-Zugriff und Möglichkeit der Steuerung über eine Fertigungssteuerungssoftware (MES). 2. Weitere Anforderungen: Frei programmierbare Polierrezepte für Mehrstufenprozesse oder parallele Prozesse. Möglichkeit der Niedrig-Andruck-Planarisierung für low k-Materialien und Highspeed Polieren. Möglichkeit der In-situ Konditionierung der Polier-Pads und Niedrig-Andruck-Konditionieren. Flexible Hinterlegung von Prozess-Sequenzen in Steuersoftware (z. B. Messen und/oder Reinigen ohne CMP). Polier-Platen: Drehzahl: 10-100 rpm. Mehr-Zonen-Polier-Köpfe: Drehzahl: 10-100 rpm; Zonen-Druck: 0,5-6 psi. Retaining-Ring-Druck: 1-15 psi. Pad-Konditionierer: Drehzahl: 10-100 rpm; Druck: 1,5-10 lbf. Slurry-Versorgung: 50-500 ml/min; 3 Slurry-Lines je Polier-Platen + DI-Wasser. Maschinenzustandsmeldung über optische und akustische Signale, alle notwendigen Sicherheitseinrichtungen vorhanden. Lose Aufteilung des Auftrags in Lose: nein
II.5) Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
42990000
II.7) Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)
Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen (GPA): ja
Abschnitt III: Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Angaben
Abschnitt VI: Weitere Angaben
VI.1) Angaben zu Mitteln der Europäischen Union
Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der Europäischen Union finanziert wird: nein
VI.4) Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:
23.10.2014
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