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Verfahren zur Vor-Information - Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke in München (ID:10197751)

Auftragsdaten
Titel:
Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
DTAD-ID:
10197751
Region:
80686 München
Auftragsart:
Europäische Ausschreibung
Europäische Ausschreibung
Dokumententyp:
Verfahren zur Vor-Information
Verfahren zur Vor-Information
Termine und Fristen
DTAD-Veröffentlichung:
22.11.2014
Beteiligte Firmen und Vergabestellen
Vergabestelle:
Zusätzliche Informationen
Kurzbeschreibung:
Aufdampfanlage. Die Bekanntmachung betrifft den Abschluss einer Rahmenvereinbarung: nein
Kategorien:
Sonstige Maschinen, Geräte
CPV-Codes:
Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
Vergabeordnung:
Lieferauftrag (VOL)
Vollständige Bekanntmachung
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Org. Dok.-Nr:  398848-2014

Vorinformation

Lieferauftrag Richtlinie 2004/18/EG
Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
I.1) Name, Adressen und Kontaktstelle(n)
Fraunhofer Gesellschaft e. V.
Hansastr. 27 c
Zu Händen von: Frau Lönz
80686 München
DEUTSCHLAND
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse des öffentlichen Auftraggebers: http://www.fraunhofer.de
Weitere Auskünfte erteilen: die oben genannten Kontaktstellen
I.2) Art des öffentlichen Auftraggebers
Sonstige: Forschungsgesellschaft e. V.
I.3) Haupttätigkeit(en)
Sonstige: Forschung und Entwicklung
I.4) Auftragsvergabe im Auftrag anderer öffentlicher Auftraggeber
Der öffentliche Auftraggeber beschafft im Auftrag anderer öffentlicher Auftraggeber: nein
Abschnitt II.B: Auftragsgegenstand (Lieferungen oder Dienstleistungen)
II.1) Bezeichnung des Auftrags durch den öffentlichen Auftraggeber:
Aufdampfanlage.
II.2) Art des Auftrags und Ort der Lieferung bzw. Ausführung
Lieferauftrag Dresden. NUTS-Code DED2
II.3) Angaben zur Rahmenvereinbarung
Die Bekanntmachung betrifft den Abschluss einer Rahmenvereinbarung: nein
II.4) Kurze Beschreibung der Art und der Menge bzw. des Werts der Waren
bzw. Dienstleistungen: Beschaffung Aufdampfsystem. Beschreibung: Die Anlage soll der physikalischen Schichtabscheidung (PVD) von Metallen, Oxiden und Fluoriden dienen. Die Anlage soll der Abscheidung einzelner Schichten und von Schichtstapeln aus N alternierenden Einzelschichten (N < 10) ohne Vakuumunterbrechung dienen. Materialien: Al, Ge (Gruppe 1: Metalle), SiO2, Al2O3, Ta2O5, TixOy (Gruppe 2: Oxide), AlF3, MgF2 (Gruppe 3: Fluoride). Die Anlage ist für den Einsatz in der Halbleiter-MEMS-Fertigung von 200 mm Si-Substraten in einem ISO 4 Reinraum vorgesehen. Optional muss eine Bearbeitung von 150 mm Si-Substraten möglich sein. Aufbau/Bestandteile: — Hochvakuumkammer, — Pumpstand, — Meissner Falle mit Cryo-Generator, — Vakuummesseinrichtung, — Prozess-Steuerung, — 2 Elektronenstrahlquellen mit Drehblenden, — Thermischer Verdampfer mit Drehblende, — Quellensteuerung (Hochspannung, Starkstrom), — Verteilungsblende(n), optional in-situ wechselbar, — Kalotte für 200 mm Wafer, zusätzlich (optional) Möglichkeit der Aufnahme von 150 mm Wafern, — Drehantrieb für Kalotte, — Substratheizung: Kalottenrückseitenheizung und Quarzstrahler Wafervorderseite, — Ionenquelle zur plasmaunterstützten Abscheidung (PIAD), — Gaseinlass für ein reaktives Gas (O2), — Schichtdickenmessung (Quarz Monitoring, Optical Monitoring als Option), — Softwarepaket zur Prozessanpassung und -optimierung (shaper design), — automatisches Handlingsystem (Transfer 200 mm Wafer Standard-Kassette – Kalotte), — Schutzblechsatz für den Rezipientenboden, — zweiter Schutzblechsatz für die Hochvakuumkammer, — vollständige Dokumentation. Eigenschaften: — Waferanzahl: 8, — Basisdruck: < 1.0 x E-7 mbar, — Abpumpverhalten: < 5.0 x E-7 mbar < 45 min, — Schichtdickenbereiche Einzelschichten: Metalle < 1 200 nm. Oxide: < 500 nm. — Schichtdickenbereich Schichtstapel: Gesamtdicke: < 2 µm (N < 10, Oxide, Fluoride), — Abscheideraten: 0,1-1 nm/s, — Substratheizung bis 300 °C, — die Anlage ist nach dem aktuellen Stand der Technik mit allen notwendigen Einrichtungen versehen, um qualitativ hochwertige, homogene Schichten (Homogenität < 3 %) zu erzeugen, — der Steuerungsrechner erlaubt ein komfortables Rezept-Management, die zeitaufgelöste Aufzeichnung aller relevanter Prozess-Daten, einen Remote-Zugriff über TCP/IP und verfügt über eine dokumentierte Kommunikationsschnittstelle zur Ansteuerung über eine Fertigungssteuerungssoftware (MES), — die Anlage verfügt über alle notwendigen Sicherheitseinrichtungen. Lose Aufteilung des Auftrags in Lose: nein
II.5) Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
42990000
II.7) Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)
Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen (GPA): ja
Abschnitt III: Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Angaben
Abschnitt VI: Weitere Angaben
VI.1) Angaben zu Mitteln der Europäischen Union
Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der Europäischen Union finanziert wird: nein
VI.4) Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:
20.11.2014
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